EAN: 9783863598594

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Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung - dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma - bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.
Produktinformationen zuletzt aktualisiert am
01.04.2026 um 06:25 Uhr


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EAN
9783863598594
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3863598598
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